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浅谈RCA湿法清洗 1.SPM3#液去污及部分金属$ ]) W/ d* j. q: j' K' U( O 2.APM1#液去表面颗粒及金属杂质) |, [' p# \% ? 3.HPM2#液去金属粒子 4.DHF去氧化层和金属粒子 5.去离子水冲洗, y. Y# e& M4 O" I& e6 d# ~% A 订制酸碱洗设备请联系:苏州晶淼半导体设备有限公司9 c9 X- c/ R: \. r2 i+ U 联系电话:18936102713张静文 S, J( o6 R7 A+ o5 [( h3 I( E2 l |
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