|
浅谈RCA湿法清洗 1.SPM3#液去污及部分金属 2.APM1#液去表面颗粒及金属杂质8 ^( u5 M! b9 H& ~ 3.HPM2#液去金属粒子 4.DHF去氧化层和金属粒子" o. c; Q0 m- x6 R; I0 m$ B. R k8 Q 5.去离子水冲洗! H. x% `$ ?' z2 ~7 B6 {& A7 A 订制酸碱洗设备请联系：苏州晶淼半导体设备有限公司 联系电话：18936102713张静文) A+ I. B2 T- v: W5 r1 U- O |
| 学习一下 |
微信公众号
手机版
